围绕铌掺杂氧化锌薄膜的制备工艺，我校电子工程学院吴木营老师等使用激光溅射法在玻璃基底上制备了（002）面高择优生长的铌掺杂氧化锌（NZO）透明导电薄膜。通过设定制备过程中的氧分压值，系统研究了氧分压对NZO薄膜光学特性的影响。研究发现，合适的氧气量可以减少相关的缺陷散射并增强载流子迁移率；电阻系数达到10－4Ω.cm，平均光透过率超过88%，最低电阻率达到4.37×10−4Ω.cm。
透明导电薄膜主要应用于平面液晶显示、电致发光显示、电致彩色显示、太阳能电池透明电极等产业领域。随着相关产业的发展，透明导电薄膜将会有较大的应用和发展空间。早期的透明导电薄膜主要以掺锡氧化铟（ITO）为代表，但存在昂贵、有毒副作用、性能不稳定等缺点。氧化锌掺杂的透明导电薄膜是最有希望替代ITO的新材料。本研究所涉及的铌掺杂氧化锌薄膜也是性能较好的透明导电薄膜，有潜在的应用价值。通过对其制备工艺进行深入研究，能够为透明导电薄膜的制备与发展做出贡献。
该研究成果“Influence of oxygen pressure on the structural, electrical and optical properties of Nb-doped ZnO thin films prepared by pulsed laser deposition”发表在《Applied Surface Science》上。该刊物为中科院JCR数据库中的SCI二区刊物、我校T类三级刊物，影响因子为2.538。
